Негативные фоторезисты серий ma-N 400 и ma-N 1400 созданы для производства МЭМС и обратной (взрывной) фотолитографии. Эти материалы демонстрируют высокую стабильность в процессах жидкостного и сухого травления, высокую температурную устойчивость (до 110оС для ma-N 400 и до 160оС для ma-N 1400); имеют настраиваемый профиль. Широкий спектр доступных вязкостей позволяет выбрать оптимальный фоторезист для получения желаемой толщины плёнки.

• Тон: негативный.
• Толщина плёнки: 4,1 – 7,5 мкм (ma-N 400) и 0,5 – 4 мкм (ma-N 1400).
• Экспонирование: 300 – 380 нм (ma-N 400) и 300 – 410 нм (ma-N 1400).
• Проявление: воднощелочными растворами.

По вопросам приобретения  и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам