Негативные фоторезисты mr-EBL 6000, mr-UVL 6000 и mr-DWL от Micro Resist Technology (Германия).
mr-EBL 6000
обладает высокой устойчивостью к жидкостному и сухому травлению и высокой разрешающей способностью, используется для электронно-лучевой литографии.
| Номер по каталогу | Фасовка |
| mr-EBL 6000.1 | 0,25 / 0,5 / 1 л |
| mr-EBL 6000.3 | 0,25 / 0,5 / 1 л |
| mr-EBL 6000.5 | 0,25 / 0,5 / 1 л |
mr-UVL 6000
обладает высокой устойчивостью к сухому и жидкостному травлению и подходит для тонкослойной УФ литографии.
| Номер по каталогу | Фасовка |
| mr-UVL 6000.1 | 0,25 / 0,5 / 1 л |
| mr-UVL 6000.3 | 0,25 / 0,5 / 1 л |
| mr-UVL 6000.5 | 0,25 / 0,5 / 1 л |
mr-DWL
обладает высокой чувствительностью >400 нм (DWL @ 405 nm) и подходит для мультифотонной литографии (Direct Writing Laser).
| Номер по каталогу | Фасовка |
| mr-DWL_5 | 0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л |
| mr-DWL_40 | 0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л |
По вопросам приобретения и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам