Резисты PMGI и LOR обеспечивают условия для высокого выхода годных, обратной литографии для формирования металлизированного слоя в различных приложениях от хранения данных до беспроводных ИС и МЭМС. PMGI и LOR используется под фоторезистами в двухслойном покрытии и расширяют пределы технологии обратной литографии и можно использовать однослойный резист. Это включает в себя металлизацию с очень высоким разрешением (<0.25μm), а также металлизацию с очень толстым слоем (> 4 мкм). Данные уникальные материалы доступны в различных емкостях, чтобы удовлетворить практически любые потребности клиента.
Материал применяется:
|
Характеристики материала:
|
По вопросам приобретения резистов для обратной литографии и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам:
(495)-790-14-52
8-915-218-57-47
8-926-941-80-03