Главная страница » Продукция » Материалы » Полимерные материалы » Резисты PMGI и LOR
Резисты PMGI и LOR

Резисты PMGI и LOR обеспечивают условия для высокого  выхода годных, обратной литографии для формирования металлизированного слоя в различных приложениях от хранения данных до  беспроводных ИС и  МЭМС. PMGI и LOR используется под фоторезистами  в двухслойном покрытии  и расширяют  пределы технологии обратной литографии и можно использовать однослойный резист. Это включает в себя металлизацию с очень высоким разрешением (<0.25μm), а также металлизацию с  очень толстым  слоем  (> 4 мкм). Данные уникальные материалы доступны в различных емкостях, чтобы удовлетворить практически любые потребности клиента.

Материал применяется:

  • Обратная литография для формирования металлизированного слоя
  • Изготовление воздушных канавок
  • Высвобожденные слои
Характеристики материала:

  • Не смешивается при нанесении покрытия с изображением на резисте
  • Одноэтапное проявление двухслойного покрытия  в проявителях тетраметилового гидроксида  аммония, или гидроксида калия
  • Высокая термическая стабильность: Tg ~ 190 C
  • Быстро и аккуратно удаляется раствором  для удаления резиста
  • Обеспечивает двухслойное изображение на резисте 0.25µm
  • Обеспечивает условия для высокого  выхода годных, обратной литографии для формирования металлизированного слоя(>3µm)

По вопросам приобретения резистов для обратной литографии и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам:

(495)-790-14-52

8-915-218-57-47

8-926-941-80-03