Si + dry SiO2 wafer 100×100 mm 525 um (100) SSP
Прямоугольный кусок пластины Si + сухой SiO2 (100 x 100 мм), толщина = 525 ± 25 мкм, (100), односторонняя полировка, p-тип (бор), 1 — 10 Ом см, 200 нм сухого SiO2 (выращен термическим способом с обеих сторон), упаковка из 10 пластин
Свойства
| Материал: | Si + SiO2 (сухой) (200 нм) |
|---|---|
| Ориентация: | 100 |
| Качество: | Первичный |
| Прямоугольный Размер: | 51 — 100 мм |
| Толщина SiO2: | 100 — 200 нм |
| Поверхность: | 1-боковая полированная поверхность |
| Толщина: | 501 — 700 мкм |
По вопросам приобретения Si + сухая пластина SiO2 100×100 мм 525 мкм (100) SSP и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам.