Разработчик MIF AZ^® 2026

Проявители, не содержащие ионов металлов

Общая информация

AZ^® 300 MIF, AZ^® 326 MIF, AZ^® 726 MIF и AZ^® 2026 MIF Developers — это составы для разработки с 2,38 % TMAH (гидроксида тетраметиламмония) в H2O.
AZ^® 726 MIF Developer дополнительно содержит поверхностно-активное вещество для лучшего смачивания и быстрого оседания. В дополнение к смачивающему веществу AZ^® 726 MIF в AZ^® 2026 MIF содержится средство для удаления накипи, обеспечивающее полное и беспенное удаление слоев резиста по более высокой цене. Однако для наших негативных резистов, таких как AZ^® серия nLof 2000, AZ^® серия 15nXT, AZ^® 125nXT, этот разработчик демонстрирует выдающиеся результаты. Даже для положительного резистора, такого как AZ^® 10XT резистор, это значительно снижает сопротивление, если возникает такая проблема.

AZ^® 2033 MIF — это 3,00 % TMAH в H2O с добавлением поверхностно-активных веществ для быстрого и равномерного смачивания подложки и дополнительных добавок для удаления остатков резиста (остатков в некоторых семействах лаков), но за счёт более тёмного удаления. По сравнению с AZ^® 2026 MIF нормальность составляет не 0,26, а 0,33. Таким образом, скорость разработки выше с AZ^® 2033 MIF Developer.

По вопросам приобретения Фоторезист AZ 1512 HS — 3,785 л и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам.