Главная страница » Продукция » Фотохимия » Первичная пластина Si + SiO2 (влажная) (300 нм) 525 мкм 100
Первичная пластина Si + SiO2 (влажная) (300 нм) 525 мкм 100

FZ Si + wet SiO2 wafer 4 inch 525 um (100) SSP

Пластинка Prime FZ Si + влажный SiO2, 4 дюйма, толщина = 525 ± 25 мкм, (100), односторонняя полировка, TTV < 10 мкм, удельное сопротивление (без легирования) 1000 — 100000 Ом·см, 300 нм термического SiO2 сухого/влажного/сухого

Диаметр (круглый): 4 дюйма
Материал: Si + SiO2 (влажный) (300 нм)
Ориентация: 100
Качество: Первичный
Удельное сопротивление: > 10000 Ом, см
Толщина SiO2: 201 — 300 нм
Поверхность: 1-боковая полированная поверхность
Толщина: 501 — 700 мкм

По вопросам приобретения Пластина из боросиликатного стекла   и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам.

error: Content is protected !!