Перекись водорода
H2O2
Общая информация
H2O2 входит в состав растворов для травления Piranha-etch, RCA-1 и RCA-2, а также растворов для травления различных III/V-полупроводников.
H2O2 (30%) доступен в виде вещества, соответствующего требованиям для интегральных схем, что является обычной степенью очистки, применяемой при обработке полупроводников и в микроэлектронике.
По вопросам приобретения Перекись водорода 30% и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам.