AZ® 1512 HS
Положительные тонкие резисты для мокрого травления
Общая информация
Серия AZ® 1500 фоторезистов обеспечивает улучшенную адгезию для всех распространенных процессов мокрого травления. Боковое разрешение зависит от толщины фоторезиста и может достигать субмикронного уровня. Очень высокая концентрация фотоактивного соединения AZ® 1512 HS обеспечивает максимальный контраст фоторезиста (очень высокая скорость проявления, минимальная темная эрозия). При 4000 об/мин можно получить толщину покрытия около 1,2 мкм. Толщину покрытия примерно 1,0–1,8 мкм также можно получить, изменяя скорость вращения.
Свойства продукта
- Улучшенная адгезия ко всем распространенным материалам подложки
- Широкий диапазон технологических параметров для стабильных и воспроизводимых лито-процессов
- Высокая скорость разработки
- Совместим со всеми распространёнными реагентами (на основе NaOH, KOH или TMAH)
- Совместим со всеми распространенными средствами для снятия краски (например, с AZ® 100 Remover, органическими растворителями или водными щелочными растворами)
- Чувствителен к g-, h- и i-линиям (приблизительно 320–440 нм)
- Диапазон толщины защитной плёнки составляет примерно 1,0–1,8 мкм
Разработчики
Если можно использовать проявители, содержащие ионы металлов, то проявитель AZ® 351B на основе NaOH в разбавлении 1:4 (для требуемого разрешения < 1 мкм рекомендуется разбавление 1:5 — 1:6) является подходящим проявителем. Проявитель AZ® 400K на основе KOH (также в разбавлении 1:4 — 1:6) можно использовать, но из-за его меньшей селективности он не рекомендуется, если требуется высокое разрешение или крутые боковые стенки резиста. Если необходимо использовать проявитель без ионов металлов, мы рекомендуем проявитель AZ® 326 MIF или AZ® 726 MIF** на основе TMAH, неразбавленный или — для максимального разрешения — разбавленный водой в соотношении 3:1 — 2:1 (3 части проявителя: 1 часть дистиллированной воды).
Средства для удаления
В качестве съемника для несшитых резистивных пленок можно использовать AZ® 100 Remover, DMSO или другие распространенные органические растворители. Если пленка резиста сшита (например, при высоких температурах > 140 ° C, во время плазменных процессов, таких как сухое травление или во время ионной имплантации), мы рекомендуем не содержащий NMP TechniStrip P1316 в качестве средства для удаления. AZ® 920 Remover также может стать хорошим выбором в случае сильно въевшихся, трудноудаляемых остатков краски.
Истончение / Удаление краевых выступов
Для разбавления и удаления наплывов мы рекомендуем AZ®растворитель EBR.
По вопросам приобретения Фоторезист AZ 1512 HS — 3,785 л и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам.