AZ^® 12XT-20PL-15

Химически усиленные фоторезисты позитивного тона

Общая информация

AZ^® 12XT для резистивных пленок толщиной от 5 до 15 мкм (i-линия)
AZ^® 12XT — это химически усиленный толстый позитивный резист с превосходной светочувствительностью и соотношением сторон, характеризующийся превосходной устойчивостью к внешним воздействиям и пригодностью для нанесения покрытий, RIE и т. д. Даже при очень большой толщине резистной плёнки AZ^® 12XT требует лишь непродолжительного времени мягкого обжига, не требует задержки для регидратации, очень малых доз облучения благодаря химическому усилению и обеспечивает высокую скорость проявления.

Свойства продукта

• Высокая термостойкость
• Совместим со всеми распространенными проявителями на основе TMAH
• Совместим со всеми распространенными средствами для снятия изоляции (например, с AZ^® 100 Remover, органическими растворителями или водными щелочными растворами)
• Чувствительность к инфракрасному излучению (приблизительно 320–390 нм)
• Диапазон толщины резистивной пленки приблизительно от 5 до 20 мкм

Разработчики

Мы рекомендуем разработчиков на базе TMAH, таких как AZ^® 326 MIF, AZ^® 726 MIF или AZ^® 2026 MIF.

Средства для удаления

Составы AZ^® 12XT совместимы с промышленными стандартными средствами для удаления лака на основе растворителей, такими как AZ^® 920 Remover, AZ^® 100 Remover и средства для снятия лака на основе диметилсульфоксида.

Утончение / Удаление краевых выступов

Для разбавления и удаления наплывов мы рекомендуем AZ^® EBR Solvent или AZ^® EBR70/30 Solvent.

По вопросам приобретения Фоторезист AZ 12XT-20PL-15 — 3,785 л и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам.