Главная страница » Продукция » Фотохимия » Cu etch 100 — 5,00 л — готово к использованию
Cu etch 100 — 5,00 л — готово к использованию

Информация о продукте «Cu etch 100 — 5,00 л — готов к использованию»

Cu etch 100

Травитель меди

Общая информация

Cu etch 100 — это щелочной травитель для меди, который используется для химико-механического удаления слоев меди с избирательностью по отношению к таким металлам, как Ni, Au, Cr, Sn, Ti. Обычно его применяют при производстве полупроводников или в микросистемной технологии.

Свойства продукта

  • Высокая скорость травления и степень недотравливания с использованием меди в качестве жертвенного слоя
  • Селективность по отношению ко многим материалам, например, к распространённым металлам, используемым в гальванической промышленности
  • Выпускается с различными степенями чистоты
  • Совместимость для защиты от маскировки
  • Использование при комнатной температуре

Селективность

Cu etch 100 совместим/вытравливает следующие материалы:

  • Фоторезисты: обычный Novolak в качестве маскирующего фоторезиста (например, AZ® Фоторезист)
  • Металлы: не воздействуют на Ni, Au, Cr, Sn, Ti, Pt, Ta
  • Металлы: атакованные Cu, TiW, Ag, Zn
  • Полупроводниковые материалы: Si, SiO2, Si3N4

Данные о селективности и совместимости являются информацией производителя и не претендуют на полноту. Пожалуйста, свяжитесь с нами для получения более подробной информации.

По вопросам приобретения Cu etch 100 — 5,00 л — готово к использованию и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам.

error: Content is protected !!