Cr etch 210

Хромовый травитель

Общая информация

Cr-травящий раствор 210 — это щелочной травитель для Cr. Травитель используется для химико-механического травления или удаления тонких слоев Cr с избирательностью по отношению к таким металлам, как Au, Sn, Pt, Cu, Ni, Ti, Ta. Обычно его применяют при производстве полупроводников или в микросистемной технологии, например, для удаления или травления барьерного или адгезионного слоя Cr в стопке подложек для нанесения покрытий.

Свойства продукта

• Низкий подрез (в пределах толщины слоя), минимальный размер элемента < 1 мкм
• Селективность по отношению ко многим материалам, например, к распространённым металлам, используемым в гальванической промышленности
• Выпускается с различными степенями чистоты
• Совместимая с резистивной маской
• Использовать при комнатной температуре
• Увеличение скорости травления при повышении температуры до 40°C

Селективность

Cr etch 210 совместим/вытравливает следующие материалы:

• Сопротивляемость: обычный Novolak в качестве маскирующего резиста (например, AZ® Фоторезист)
• Металлы: не воздействуют на Au, Sn, Pt, Cu, Ni, Ti, Ta
• Металлы: подвергшиеся воздействию Cr
• Полупроводниковые материалы: Si, SiO2, Si3N4

Данные о селективности и совместимости являются информацией производителя и не претендуют на полноту. Пожалуйста, свяжитесь с нами для получения более подробной информации.

Скорость травления

При нормальных условиях скорость травления составляет от 10 до 15 нм/мин при температуре 40 °C (соответственно, ниже при комнатной температуре). Слой хрома толщиной 30 нм, нанесённый методом распыления, травят примерно за 180 секунд. Смешанный раствор для травления стабилен во времени и может использоваться многократно в зависимости от требований к применению. Рекомендуется утилизировать раствор не позднее, чем когда скорость травления изменится на 20%.