Информация о продукте «AZ 3DT-102M-15 — 3,785 л»
AZ® 3DT-102M-15
Химически усиленный положительный фоторезист
Общая информация
AZ® 3DT-102M-15 — это химически усиленный фоторезист с положительным тоном и очень высоким соотношением сторон. Он предназначен для использования в качестве маски для сухого травления, ионной имплантации, RDL и гальванического покрытия (совместим с медью). Его можно использовать как с i-линейными шаговыми двигателями, так и с обычными выравнивателями масок. AZ® 3DT-102M-15 предназначен для использования в диапазоне толщин от 8 до 20 мкм.
Свойства продукта
- Крутые боковины
- Совместим с-процессами меднения-
- Для TSV, имплантации, RDL, гальванического покрытия, сухого травления
- Химически усиленный ПЭБ обязателен
- Совместим с большинством средств для удаления фоторезиста (например, AZ® 100 Remover на основе органического растворителя или щелочи)
- i-line sensitive (может использоваться и для широкополосной экспозиции)
- Диапазон толщины резистивной пленки около 8-20 мкм
Разработчики
Рекомендуемые проявители — AZ® 326 MIF или AZ® 726 MIF для фоторезиста AZ® 3DT-102M-15.
Средства для удаления
Рекомендуемые стрипперы для AZ® 3DT-102M-15 — AZ® 920 Remover, AZ® 100 Remover, TechniStrip P1316, TechniStrip P1331 и TechniStrip MLO07.
Утончение / Удаление краевых выступов
Для разбавления мы рекомендуем AZ®растворитель EBR.
По вопросам приобретения AZ 3DT-102M-15 — 3,785 л и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим Вас обратиться к менеджерам.